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真空镀膜是镀膜行业发展的必然趋势

发布者：发布时间：2014/3/6 阅读：843次

当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（CVD），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（PVD）。

化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。

化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，即使是硬质合金，虽然能经受高温，但在化学镀膜制作的环境下由于高温也会造成晶粒粗大，引起脆性相，性能变坏。如果在硬质合金刀具上蒸镀Tin，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。

真空科技研发的真空镀膜机很好的解决了化学镀膜产生的一系列问题。真空镀膜是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

所有的镀层材料都是在真空的环境下通过等离子体沉积在工件表面，解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性好，性能更稳定。真空镀膜工艺处理的温度可以控制在150～500℃以下，适用于多种基体材料，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高2～10倍。

由此可见，真空镀膜是镀膜行业发展的必然趋势，其应用已经引起了世界各国制造业的高度重视，对环境无污染，符合现代绿色制造的发展方向，从二十世纪50年代开始，化学镀膜就逐步被真空镀膜取代。

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